大国重器（大国工业）(校对)第384部分在线阅读

　　光刻机第一道关卡，被众人轻松越过！
第四百九十六章
此生无憾
　　透镜的研发成功只是第一步。
　　光刻机的制造难度极大，但主要的拦路虎一共有四条。
　　第一是制造精度要求极高，一台光刻机数万个零件，要求的制造精度最少也是微米级，绝大多数精密部件要求精度达到亚微米级，极少数超高精密零部件的加工精度需要达到100纳米～200纳米。
　　这样高的精度，以国内现行的加工技术，根本做不到。
　　人力有时而穷，八级技工的手工打磨最高精度仅能达到亚微米级，就算秉持着十年磨一剑的精神，也磨不出精度只有100微米的极高精密零件。
　　不过对于钢铁城来说，这已经不是问题。实验工厂新研发的自动车床、铣床、磨床等一系列加工设备，均达到了最高精度一百多纳米的水平，完全达到了个别超高精密零部件的加工要求。
　　第二个是高透光度的透镜。
　　第三个拦路虎，则是光刻机的行动部件。
　　最后一个，就是短波激光光源。
　　芯片光刻，是通过工作台的移动，来改变光刻聚焦，对光刻胶进行刻蚀。它的运动控制部件优劣，直接决定了光刻的精度，而移动速度，又决定了产率，可以说是光刻机最核心的子系统。
　　要保证最佳的对焦调整，工作台的最小移动距离必须非常小，最好是一个纳米一个纳米移动。
　　实际制作中当然达不到这样的精度。
　　以飞利浦最新款的光刻机为例，它的最小移动距离实际只有300纳米。加上光源波长，它的光刻效果，最小线宽达到了三百五十纳米。
　　其他厂商差不多也是同一水平，有区别也差距不大。
　　这就是当前国际最先进的光刻机制程能力。
　　所谓一代设备，一代产品。
　　最新的奔腾2266处理器，采用的就是350纳米线宽的制程工艺。
　　白云天进入到实验室，对李莲道：“你们这边进度怎么样？”
　　“非常顺利！”李莲给了他一个笑脸。
　　她带领的小组，负责制造光刻机最关键的工作台子系统，其中最重要的就是运动部件。
　　为了保证运动的稳定性，移动部分不是普通导轨，而是空气悬浮导轨。
　　从制造难度来说，它不算太大。
　　无非是一两百纳米的加工精度，对才鸟枪换炮的钢铁城来说一点难度也没有。
　　之所以它会成为光刻机研制的拦路虎，还是因为导轨设计需要运用到非常高深的流体力学知识，才能验算出怎样设计才会将气流对工作台稳定性的影响降到最低，从而设计出满足工业需要的产品。
　　偏偏这一点，对白云天最不构成阻碍。
　　谁让他有《制造史回顾》！
　　从科研的角度来说，这时代的其他人就好像盲人在旷野中摸索。
　　他们要很小心才不会路上的沟坎、障碍物绊倒，然后还要努力分辨前方究竟是悬崖，还是崎岖难行的山路，亦或是高不可攀的山峰。
　　只有通过空气流动、潺潺水声，他们才能花费巨大代价，找到一条前进的道路。
　　但即便如此，也许跟着水流、空气前行，还是会走入死胡同，不得不又退回到起点，重新寻找别的途径。在这个过程中，他们也尽可能与其他探路者相互交流信息，告诉别人某条路可能走得通，某条路是死路，让他们不要再去尝试。
　　人类文明每前进一步，都艰辛无比。
　　但白云天不同。
　　他就如同开了全图的玩家，一落地，就对四面八方的道路有着完整的认知，绝对不会走错。
　　决定他前进速度的，从来不是寻路的过程，而是有着怎样的交通工具。
　　他可以一直走在正确的道路上，偶尔步入一个岔路，在地上捡到一点不知道谁丢的钱。随后，他就可以用这钱去买一辆自行车，在接下来的路上骑得更快、更轻松，还有空看看美丽的风景。
　　光刻机的制造就是这样。
　　其他光刻机巨头，需要投入重金，请最优秀的研发人员，用最好的研发设备，潜心研究数年，中途还要用利益跟其他人交换技术，才能艰难地前行一步。
　　然而白云天不需要。
　　他在一开始，就清楚地知道自己在做什么样的东西，如何去做。
　　只要自己的技术够了，不需要试多少次，就能将东西做出来。
　　这对这时代的其他科研人员是不公平的。
　　但这世界，从来没有公平！
　　落后就要挨打，这是永世不变的至理箴言！
　　白云天从来不需要顾虑他人的感受，他只是根据自己的目标，坚定地走在自己的路上。
　　透镜、工作台很容易就做了出来。
　　并且他还根据后世设计，对工作台做了巨大改动，将惯常的一个工作台，改为了双工作台。
　　当一个工作台正在进行光刻工序时，另一个工作台则提前进行晶圆片更换、定位、微调、测量等前序工作。当那一个工作台完成光刻，两个工作台换位，立即就能进行下一道光刻工序，极大地提升了光刻效率。
　　光源部分，是唯一没有自造的。
　　毕竟汞灯只是光刻机光源，波长统一为365纳米，其制造难度并不是特别大。国际市场上的供应商很多，全面禁止对华出口的难度较大，很容易买到。
　　白云天为了省事，也就没自造，而是通过国内，直接购买了一套。
　　但是他还是做了小幅改进。
　　就是用将目镜浸入纯净液体中的方式，对光束波长进行一定幅度的折射，从而达到聚焦效果。
　　在后世，这叫浸入式光源。
　　现在各大光科技厂商正在就此技术，进行实验室研究阶段，尚未投入实用。
　　既然白云天手里有完整的技术，浸入式光源又能小幅改进光源聚焦，那又为何不用？
　　实际使用效果很好。
　　采用了浸入式光源技术以后，364纳米的光束波长被约束到了312纳米！
　　比之英特尔使用的350纳米技术，提升了近40纳米！
　　在白云天的亲自指导监督下，有李莲、华新等人直接领导，光刻机的制造进度快得惊人，透镜、工作台子系统、光源等最大的技术难点，一一被轻松攻克。
　　经过两个月的技术攻关——其实就是逐步熟悉制造工艺，一台双工位，最大晶元刻蚀尺寸为200mm的光刻机就顺利建造完成，顺利得让所有参与制造的技术人员感觉如在做梦。
　　“这就做好了？”
　　当最后一块挡板合上，螺丝拧紧，对光刻机通电系统测试通过，白云天宣布光刻机研发成功，其他人还是不敢相信这个事实，不由窃窃私语。
　　连下料到解决一个个技术问题，制作出子系统，再到总装，两个月就做出一台这时代最先进的光刻机……
　　这可能吗？
　　就算国内光刻机厂家，有现成图纸、熟练工，做一台出来也不止这点时间吧。
　　“行不行咱们试试不就知道了。”白云天看着众人表情，笑了笑没有解释。
　　有他带着一种接受了高端制造技术知识注入的新人亲自参与，两个月制造一台光刻机算什么。
　　要不是没有专用机床设备，哪要得了两个月！
　　像专门制造光刻机的ASML，一年就要卖几十上百台光刻机出去。
　　两月一台？
　　这么慢的生产速度，早就破产倒闭了！
　　光刻掩膜板早就做好了，这是白云天、李莲亲自动手做的，达到了钢铁城当前技术极限。
　　掩膜并非只有一个，而是一套。
　　光刻是个工序多达上百道的漫长加工过程，一道工序，可能就只有极微小的改变。逐步刻蚀掉需要加工部位的光刻胶，然后通过沉积、离子注入等方式，在硅晶元基片上生成所需的元器件、连线等不同部件。
　　因此整个过程是支离破碎的，每一次光刻都只针对一道工序，经由数百道工序之后，才会制造出一个包含了所有晶体管、电阻、电容等各种元器件的裸晶片。
　　由于工序漫长，每一道工序的掩膜必须严格对准，误差不能超过几个纳米。否则就会出现错位，导致沉积、注入不到正确的位置，制造失败。